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Make-up Atelier Paris Antishine Base

Make-up Atelier Paris Antishine Base

von Make-up Atelier Paris
makeup

Sicherheitsbewertung

85/100
Geringes Bedenken

Inhaltsstoffe(18)

3

glycerin

4

cetearyl alcohol

5

polysorbate 60

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Aqua/​Water/​Eau, Caprylic Capric Triglyceride, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Polysorbate 60, PEG-150 Stearate, Ceteareth-20, Sorbitol, Magnesium Aluminum Silicate, Nasturtium Officinale Extract (Leaf Extract), Extratum Hederae Helicis (Hedera Helix Extract), Arctium Majus (Burdock Root Extract), Salvia Officinalis Extract (Sage Leaf Extract), Saponaria Officinalis Extract (Saponaria Extract), Citrus Limonium Extract (Lemon Extract), Sodium Lactate, Tea-Lactate, Serine, Lactic Acid, Allantoin, Dehydroacetic Acid, Benzyl Alcohol

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Medizinischer Haftungsausschluss

Diese Informationen dienen ausschließlich Bildungszwecken und stellen keine medizinische Beratung dar. Sicherheitsbewertungen basieren auf öffentlich zugänglichen Daten und spiegeln möglicherweise nicht alle Risiken wider. Konsultieren Sie immer Ihren Arzt, bevor Sie ein Produkt während der Schwangerschaft oder Stillzeit verwenden.

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