Etos Fresh Skin Purifying Clay Mask

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Inhaltsstoffe · (29)

1
aqua
Aqua
100
2
kaolin
100
3
cetearyl alcohol
100
5
helianthus annuus seed oil
100
6
glycerin
93
7
c12-15 alkyl benzoate
93
8
butylene glycol
93
9
cetearyl glucoside
100
10
sesamum indicum seed oil
100
11
panthenol
93
12
phenoxyethanol
73
13
xanthan gum
100
14
copernicia cerifera cera
100
15
salicylic acid
40
16
parfum
Parfum
93
17
zinc pca
100
18
sodium cetearyl sulfate
100
19
enantia chlorantha bark extract
100
20
ethylhexylglycerin
93
21
sodium hydroxide
100
22
tocopherol
93
23
hexyl cinnamal
93
24
limonene
93
25
pantolactone
93
26
sodium citrate
100
27
citric acid
100
28
oleanolic acid
93
29
ci 77499
100
30
ci 77891
100

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Aqua, Kaolin, Cetearyl Alcohol, Alcohol Denat, Helianthus Annuus Seed Oil, Glycerin, C12-15 Alkyl Benzoate, Butylene Glycol, Cetearyl Glucoside, Sesamum Indicum Seed Oil, Panthenol, Phenoxyethanol, Xanthan Gum, Copernicia Cerifera Cera, Salicylic Acid, Parfum, Zinc Pca, Sodium Cetearyl Sulfate, Enantia Chlorantha Bark Extract, Ethylhexylglycerin, Sodium Hydroxide, Tocopherol, Hexyl Cinnamal, Limonene, Pantolactone, Sodium Citrate, Citric Acid, Oleanolic Acid, Ci 77499, Ci 77891

Quelle: incidecoder Originaleintrag ansehen

Medizinischer Haftungsausschluss

Diese Informationen dienen ausschließlich Bildungszwecken und stellen keine medizinische Beratung dar. Sicherheitsbewertungen basieren auf öffentlich zugänglichen Daten und spiegeln möglicherweise nicht alle Risiken wider. Konsultieren Sie immer Ihren Arzt, bevor Sie ein Produkt während der Schwangerschaft oder Stillzeit verwenden.