Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

von DESIGN ESSENTIALS
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sunscreen

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Inhaltsstoffe · (25)

  1. 2

    cetearyl alcohol

    100
  2. 3

    propylene glycol

    93
  3. 4

    glycerin

    93
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Aqua/​Water/​Eau, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Glycerin, Cetyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Acetamide Mea, Quaternium-91, Behentrimonium Methosulfate, Fragrance (Parfum), Polyquaternium-10, Pentylene Glycol, Cetrimonium Methosulfate, Propanediol, Cetrimonium Chloride, Persea Gratissima (Avocado) Seed Oil, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Chlorphenesin, Benzyl Benzoate, Citral, Geraniol, Lyral, Limonene, Linalool, Lilial

Quelle: incidecoder Originaleintrag ansehen

Medizinischer Haftungsausschluss

Diese Informationen dienen ausschließlich Bildungszwecken und stellen keine medizinische Beratung dar. Sicherheitsbewertungen basieren auf öffentlich zugänglichen Daten und spiegeln möglicherweise nicht alle Risiken wider. Konsultieren Sie immer Ihren Arzt, bevor Sie ein Produkt während der Schwangerschaft oder Stillzeit verwenden.

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