Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

от DESIGN ESSENTIALS
85
sunscreen

Узнайте всё о продукте

Сканируйте любой продукт камерой, получайте персональные оповещения о безопасности и следите за вашим уходом при беременности.

Ингредиенты · (25)

  1. 2

    cetearyl alcohol

    100
  2. 3

    propylene glycol

    93
  3. 4

    glycerin

    93
Показать полный INCI-список

Aqua/​Water/​Eau, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Glycerin, Cetyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Acetamide Mea, Quaternium-91, Behentrimonium Methosulfate, Fragrance (Parfum), Polyquaternium-10, Pentylene Glycol, Cetrimonium Methosulfate, Propanediol, Cetrimonium Chloride, Persea Gratissima (Avocado) Seed Oil, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Chlorphenesin, Benzyl Benzoate, Citral, Geraniol, Lyral, Limonene, Linalool, Lilial

Источник: incidecoder Посмотреть оригинальное объявление

Медицинская оговорка

Данная информация предоставлена исключительно в образовательных целях и не является медицинской рекомендацией. Оценки безопасности основаны на общедоступных данных и могут не отражать все риски. Всегда консультируйтесь с вашим врачом перед использованием любых средств во время беременности или грудного вскармливания.

Получите полный доступ в приложении VeriMom