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Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

par DESIGN ESSENTIALS
sunscreen

Évaluation de Sécurité

87/100
Faible Préoccupation

Ingrédients(25)

2

cetearyl alcohol

3

propylene glycol

4

glycerin

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Aqua/​Water/​Eau, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Glycerin, Cetyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Acetamide Mea, Quaternium-91, Behentrimonium Methosulfate, Fragrance (Parfum), Polyquaternium-10, Pentylene Glycol, Cetrimonium Methosulfate, Propanediol, Cetrimonium Chloride, Persea Gratissima (Avocado) Seed Oil, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Chlorphenesin, Benzyl Benzoate, Citral, Geraniol, Lyral, Limonene, Linalool, Lilial

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Source : incidecoder Voir l'annonce originale

Avis Médical

Ces informations sont fournies à titre éducatif uniquement et ne constituent pas un avis médical. Les scores de sécurité sont basés sur des données accessibles au public et peuvent ne pas refléter tous les risques. Consultez toujours votre professionnel de santé avant d'utiliser tout produit pendant la grossesse ou l'allaitement.

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