Indie Lee Clearing Mask

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Ingredientes · (13)

1
aqua
Aqua
100
2
bentonite
100
3
zinc oxide
100
4
colloidal sulfur
100
5
salicylic acid
40
6
glycolic acid
73
7
hyaluronic acid
100
8
chondrus crispus extract
100
9
ormenis multicaulis (chamomile) oil
93
10
cinnamomum camphora (camphor) essential oil
40
11
saccharide isomerate
100
12
phenoxyethanol
73
13
ethylhexylglycerin
93

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Purified Water (Aqua), Bentonite, Zinc Oxide, Colloidal Sulfur, Salicylic Acid, Glycolic Acid, Hyaluronic Acid, Chondrus Crispus (Seaweed) Extract, Anthemis Nobilis (Chamomile) Extract, Camphor, Saccharide Isomerate, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin

Fuente: incidecoder Ver listado original

Aviso Médico

Esta información es solo para fines educativos y no constituye asesoramiento médico. Las puntuaciones de seguridad se basan en datos disponibles públicamente y pueden no reflejar todos los riesgos. Siempre consulte a su profesional de salud antes de usar cualquier producto durante el embarazo o la lactancia.