Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

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por DESIGN ESSENTIALS
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Ingredientes · (25)

  1. 2

    cetearyl alcohol

    100
  2. 3

    propylene glycol

    93
  3. 4

    glycerin

    93
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Aqua/​Water/​Eau, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Glycerin, Cetyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Acetamide Mea, Quaternium-91, Behentrimonium Methosulfate, Fragrance (Parfum), Polyquaternium-10, Pentylene Glycol, Cetrimonium Methosulfate, Propanediol, Cetrimonium Chloride, Persea Gratissima (Avocado) Seed Oil, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Chlorphenesin, Benzyl Benzoate, Citral, Geraniol, Lyral, Limonene, Linalool, Lilial

Fuente: incidecoder Ver listado original

Aviso Médico

Esta información es solo para fines educativos y no constituye asesoramiento médico. Las puntuaciones de seguridad se basan en datos disponibles públicamente y pueden no reflejar todos los riesgos. Siempre consulte a su profesional de salud antes de usar cualquier producto durante el embarazo o la lactancia.

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