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Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

por DESIGN ESSENTIALS
sunscreen

Avaliação de Segurança

87/100
Baixa Preocupação

Ingredientes(25)

2

cetearyl alcohol

3

propylene glycol

4

glycerin

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Aqua/​Water/​Eau, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Glycerin, Cetyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Acetamide Mea, Quaternium-91, Behentrimonium Methosulfate, Fragrance (Parfum), Polyquaternium-10, Pentylene Glycol, Cetrimonium Methosulfate, Propanediol, Cetrimonium Chloride, Persea Gratissima (Avocado) Seed Oil, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Chlorphenesin, Benzyl Benzoate, Citral, Geraniol, Lyral, Limonene, Linalool, Lilial

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Fonte: incidecoder Ver listagem original

Aviso Médico

Estas informações são apenas para fins educacionais e não constituem aconselhamento médico. As pontuações de segurança são baseadas em dados publicamente disponíveis e podem não refletir todos os riscos. Sempre consulte seu profissional de saúde antes de usar qualquer produto durante a gravidez ou amamentação.

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