Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque

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por DESIGN ESSENTIALS
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sunscreen

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Ingredientes · (25)

  1. 2

    cetearyl alcohol

    100
  2. 3

    propylene glycol

    93
  3. 4

    glycerin

    93
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Aqua/​Water/​Eau, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Glycerin, Cetyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Acetamide Mea, Quaternium-91, Behentrimonium Methosulfate, Fragrance (Parfum), Polyquaternium-10, Pentylene Glycol, Cetrimonium Methosulfate, Propanediol, Cetrimonium Chloride, Persea Gratissima (Avocado) Seed Oil, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Chlorphenesin, Benzyl Benzoate, Citral, Geraniol, Lyral, Limonene, Linalool, Lilial

Fonte: incidecoder Ver listagem original

Aviso Médico

Estas informações são apenas para fins educacionais e não constituem aconselhamento médico. As pontuações de segurança são baseadas em dados publicamente disponíveis e podem não refletir todos os riscos. Sempre consulte seu profissional de saúde antes de usar qualquer produto durante a gravidez ou amamentação.

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