PATTERN Treatment Mask

PATTERN 제품

moisturizers

안전성 평가

85/100

낮은 우려

성분(30)

polyquaternium-37

saccharomyces/rice ferment filtrate

hydrolyzed rice protein

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Water/Aqua/Eau, Polyquaternium-37, Saccharomyces/Rice Ferment Filtrate, Hydrolyzed Rice Protein, Butylene Glycol, Hibiscus Esculentus Seed Extract, Caesalpinia Spinosa Fruit Pod Extract, Moringa Oleifera Seed Extract, Helianthus Annuus (Sunflower) Sprout Extract, Sodium Benzoate, Disodium Phosphate, Citric Acid, Glycerin, Behentrimonium Chloride, Cetrimonium Chloride, Hydrogenated Castor Oil/Sebacic Acid Copolymer, Panthenol, Dicaprylyl Carbonate, Quaternium-87, Isopropyl Alcohol, Propylene Glycol, Chlorphenesin, Lauryl Glucoside, Aminomethyl Propanol, Ethylhexylglycerin, Potassium Sorbate, Fragrance/Parfum, Limonene, Geraniol, Citronellol, Linalool, Phenoxyethanol

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출처: incidecoder 원본 목록 보기

의료 면책 조항

이 정보는 교육 목적으로만 제공되며 의학적 조언을 구성하지 않습니다. 안전 점수는 공개적으로 이용 가능한 데이터를 기반으로 하며 모든 위험을 반영하지 않을 수 있습니다. 임신 중 또는 수유 중 제품을 사용하기 전에 항상 의료 전문가와 상담하십시오.